NanoLab Chemical Vapor Deposition System NTCVD-100 tj.piec do chemicznego osadzania z fazy gazowej wraz z całym oprzyrządowaniem oraz instalacja systemu i szkolenie z zakresu jego obsługi
Opis przedmiotu przetargu: NanoLab Chemical Vapor Deposition System NTCVD-100 tj.piec do chemicznego osadzania z fazy gazowej wraz z całym oprzyrządowaniem oraz instalacja systemu i szkolenie z zakresu jego obsługi
Poznań: NanoLab Chemical Vapor Deposition System NTCVD-100 tj.piec do chemicznego osadzania z fazy gazowej wraz z całym oprzyrządowaniem oraz instalacja systemu i szkolenie z zakresu jego obsługi
Numer ogłoszenia: 135121 - 2012; data zamieszczenia: 21.06.2012
OGŁOSZENIE O ZAMIARZE ZAWARCIA UMOWY - Dostawy
SEKCJA I: ZAMAWIAJĄCY
I. 1) NAZWA I ADRES:
Uniwersytet im. A. Mickiewicza, ul. Wieniawskiego 1, 61-712 Poznań, woj. wielkopolskie, tel. 061 8294440, 8291232, faks 061 8294012, 8291103 , strona internetowa www.amu.edu.pl
I. 2) RODZAJ ZAMAWIAJĄCEGO:
Uczelnia publiczna.
SEKCJA II: PRZEDMIOT ZAMÓWIENIA
II.1) Nazwa nadana zamówieniu przez zamawiającego:
NanoLab Chemical Vapor Deposition System NTCVD-100 tj.piec do chemicznego osadzania z fazy gazowej wraz z całym oprzyrządowaniem oraz instalacja systemu i szkolenie z zakresu jego obsługi.
II.2) Rodzaj zamówienia:
Dostawy.
II.3) Określenie przedmiotu oraz wielkości lub zakresu zamówienia:
NanoLab Chemical Vapor Deposition System NTCVD-100 tj.piec do chemicznego osadzania z fazy gazowej wraz z całym oprzyrządowaniem oraz instalacja systemu i szkolenie z zakresu jego obsługi.
II.4) Wspólny Słownik Zamówień (CPV):
38.00.00.00-5.
II.5) Szacunkowa wartość zamówienia
(bez VAT): jest mniejsza niż kwoty określone w przepisach wydanych na podstawie art. 11 ust. 8 ustawy.
SEKCJA III: PROCEDURA
Tryb udzielenia zamówienia:
Zamówienie z wolnej ręki
1. Podstawa prawnaPostępowanie wszczęte zostało na podstawie art. 67 ust. 1 pkt 1 lit. a ustawy z dnia 29 stycznia 2004 r. - Prawo zamówień publicznych.
2. Uzasadnienie wyboru trybuDostawa może być świadczona tylko przez jednego Wykonawcę z przyczyn technicznych o obiektywnym charakterze. Konieczność zastosowania ww. trybu zamówienia wynika z dokumentacji aparatury a jedyną firmą, która może w pełni zrealizować kompleksowe wymagania jest firma NanoLab, Inc. ze Stanów Zjednoczonych. Firma oferuje sprzęty najwyższej jakości, które są specjalnie przewidziane do syntezy grafenu czy nanorurek węglowych (a więc mają wymagane parametry techniczne). Ponadto , jako jedyni oferują kompleksowy układ do CVD wraz ze wszystkimi jego niezbędnymi elementami dobranymi w ten sposób, aby spełniał wymogi techniczne konieczne do syntezy grafenu dobrej jakości. Należy także podkreślić unikalną możliwość wykorzystania oprogramowania pozwalającego na kontrolę pracy układu z poziomu komputera, czego nie oferuje żadna inna firma sprzedajaca piece do CVD. Firma jest w stanie zapewnić również pomoc przy instalacji całego układu oraz szkolenie z zakresu jego obsługi.
SEKCJA IV: UDZIELENIE ZAMÓWIENIA
NAZWA I ADRES WYKONAWCY KTÓREMU ZAMAWIAJĄCY ZAMIERZA UDZIELIĆ ZAMÓWIENIA
NanoLab, Inc., 179 Bear Hill Road, Waltham,MA 02451, kraj/woj. Stany Zjednoczone.
Poznań: NanoLab Chemical Vapor Deposition System NTCVD-100 tj. piec do chemicznego osadzania z fazy gazowej wraz z całym oprzyrzadowaniem oraz instalacja systemu i szkolenie z zakresu jego obsługi
Numer ogłoszenia: 214325 - 2012; data zamieszczenia: 09.10.2012
OGŁOSZENIE O UDZIELENIU ZAMÓWIENIA - Dostawy
Zamieszczanie ogłoszenia:
obowiązkowe.
Ogłoszenie dotyczy:
zamówienia publicznego.
Czy zamówienie było przedmiotem ogłoszenia w Biuletynie Zamówień Publicznych:
tak, numer ogłoszenia w BZP: 135121 - 2012r.
Czy w Biuletynie Zamówień Publicznych zostało zamieszczone ogłoszenie o zmianie ogłoszenia:
nie.
SEKCJA I: ZAMAWIAJĄCY
I. 1) NAZWA I ADRES:
Uniwersytet im. A. Mickiewicza, ul. Wieniawskiego 1, 61-712 Poznań, woj. wielkopolskie, tel. 061 8294440, 8291232, faks 061 8294012, 8291103.
I. 2) RODZAJ ZAMAWIAJĄCEGO:
Uczelnia publiczna.
SEKCJA II: PRZEDMIOT ZAMÓWIENIA
II.1) Nazwa nadana zamówieniu przez zamawiającego:
NanoLab Chemical Vapor Deposition System NTCVD-100 tj. piec do chemicznego osadzania z fazy gazowej wraz z całym oprzyrzadowaniem oraz instalacja systemu i szkolenie z zakresu jego obsługi.
II.2) Rodzaj zamówienia:
Dostawy.
II.3) Określenie przedmiotu zamówienia:
NanoLab Chemical Vapor Deposition System NTCVD-100 tj. piec do chemicznego osadzania z fazy gazowej wraz z całym oprzyrzadowaniem oraz instalacja systemu i szkolenie z zakresu jego obsługi.
II.4) Wspólny Słownik Zamówień (CPV):
38.00.00.00-5.
SEKCJA III: PROCEDURA
III.1) TRYB UDZIELENIA ZAMÓWIENIA:
Zamówienie z wolnej ręki
III.2) INFORMACJE ADMINISTRACYJNE
Zamówienie dotyczy projektu/programu finansowanego ze środków Unii Europejskiej:
nie
SEKCJA IV: UDZIELENIE ZAMÓWIENIA
IV.1) DATA UDZIELENIA ZAMÓWIENIA:
10.07.2012.
IV.2) LICZBA OTRZYMANYCH OFERT:
1.
IV.3) LICZBA ODRZUCONYCH OFERT:
0.
IV.4) NAZWA I ADRES WYKONAWCY, KTÓREMU UDZIELONO ZAMÓWIENIA:
- NanoLab Inc., {Dane ukryte}, Waltham, MA 02451, kraj/woj. Stany Zjednoczone.
IV.5) Szacunkowa wartość zamówienia
(bez VAT): 105131,00 PLN.
IV.6) INFORMACJA O CENIE WYBRANEJ OFERTY ORAZ O OFERTACH Z NAJNIŻSZĄ I NAJWYŻSZĄ CENĄ
Cena wybranej oferty:
103524,23
Oferta z najniższą ceną:
103524,23
/ Oferta z najwyższą ceną:
103524,23
Waluta:
PLN.
ZAŁĄCZNIK I
Uzasadnienie udzielenia zamówienia w trybie negocjacji bez ogłoszenia, zamówienia z wolnej ręki albo zapytania o cenę
1. Podstawa prawnaPostępowanie prowadzone jest w trybie zamówienie z wolnej ręki na podstawie art. 67 ust. 1 pkt 1 lit. a ustawy z dnia 29 stycznia 2004r. - Prawo zamówień publicznych.
2. Uzasadnienia wyboru trybuNależy podać uzasadnienie faktyczne i prawne wyboru trybu oraz wyjaśnić, dlaczego udzielenie zamówienia jest zgodne z przepisami.
Dostawa może być świadczona tylko przez jednego Wykonawcę z przyczyn technicznych o obiektywnym charakterze. Konieczność zastosowania ww. trybu zamówienia wynika z dokumentacji aparatury a jedyną firmą, która może w pełni zrealizować kompleksowe wymagania jest firma NanoLab, Inc. Firma oferuje sprzęty najwyższej jakości, które są specjalnie przewidziane do syntezy grafenu czy nanorurek węglowych (a więc mają wymagane parametry techniczne). Ponadto , jako jedyni oferują kompleksowy układ do CVD wraz ze wszystkimi jego niezbędnymi elementami dobranymi w ten sposób, aby spełniał wymogi techniczne konieczne do syntezy grafenu dobrej jakości. Należy także podkreślić unikalną możliwość wykorzystania oprogramowania pozwalającego na kontrolę pracy układu z poziomu komputera, czego nie oferuje żadna inna firma sprzedajaca piece do CVD. Firma jest w stanie zapewnić również pomoc przy instalacji całego układu oraz szkolenie z zakresu jego obsługi.
Dane postępowania
ID postępowania BZP/TED: | 13512120120 |
---|---|
ID postępowania Zamawiającego: | |
Data publikacji zamówienia: | 2012-06-20 |
Rodzaj zamówienia: | dostawy |
Tryb& postępowania [WR]: | Zamówienia z wolnej ręki |
Czas na realizację: | - |
Wadium: | - |
Oferty uzupełniające: | NIE |
Oferty częściowe: | NIE |
Oferty wariantowe: | NIE |
Przewidywana licyctacja: | NIE |
Ilość części: | 1 |
Kryterium ceny: | 100% |
WWW ogłoszenia: | www.amu.edu.pl |
Informacja dostępna pod: | |
Okres związania ofertą: | 0 dni |
Kody CPV
38000000-5 | Sprzęt laboratoryjny, optyczny i precyzyjny (z wyjątkiem szklanego) |
Wyniki
Nazwa części | Wykonawca | Data udzielenia | Wartość |
---|---|---|---|
NanoLab Chemical Vapor Deposition System NTCVD-100 tj. piec do chemicznego osadzania z fazy gazowej wraz z całym oprzyrzadowaniem oraz instalacja systemu i szkolenie z zakresu jego obsługi | NanoLab Inc. Waltham, MA 02451 | 2012-10-09 | 103 524,00 |
Barometr Ryzyka NadużyćRaport końcowy na temat potencjalnego ryzyka nadużyć dla wskazanej części wyniku postępowania przetargowego. Data udzielenia: 2012-10-09 Dotyczy cześci nr: 1 Kody CPV: 380000005 Ilość podmiotów składających się na wykonawcę: 1 Kwota oferty w PLN: 103 524,00 zł Minimalna złożona oferta: 103 524,00 zł Ilość złożonych ofert: 1 Ilość ofert odrzuconych przez zamawiającego: 0 Minimalna złożona oferta: 103 524,00 zł Maksymalna złożona oferta: 103 524,00 zł |