Dostawa dwóch urządzeń do kopiowania i wykonywania replik mikro- i nanostruktur w procesach nanoimprintu wraz z wyposażeniem dla Instytutu Technologii Materiałów Elektronicznych w Warszawie. - pl-warszawa: sprzęt laboratoryjny, optyczny i precyzyjny (z wyjątkiem szklanego)

Opis przedmiotu przetargu: przedmiotem niniejszego zamówienia jest dostawa (rozumiana jako sprzedaż, dostarczenie do siedziby zamawiającego, montaż, zainstalowanie, uruchomienie oraz przeprowadzenie testów odbiorczych) dwóch kompletnych, fabrycznie nowych urządzeń do kopiowania i wykonywania replik mikro i nanostruktur w procesach nanoimprintu, to jest 1) urządzenia do centrowania i kopiowania (wykonywania replik) mikro i nanostruktur w procesach nanoimprintu z wykorzystaniem promieniowania uv (semi automated double side nano imprint lithography system, dalej nazywanego w skrócie „uv nil”), do centrowania i kopiowania masek chromowych w standardowych procesach fotolitograficznych (mask alignment lithography) oraz centrowania optycznego podłoży przeznaczonych do obróbki w procesach tłoczenia na gorąco (hot embossing) lub łączenia podłoży (wafer bonding), 2) urządzenia do kopiowania (wykonywania replik) mikro i nanostruktur w procesach tłoczenia na gorąco (hot embossing nano imprint lithography system, dalej nazywanego w skrócie „he nil”) z funkcją kopiowania wzorów na podłożach wycentrowanych optycznie względem stempla, o parametrach zgodnych (lub lepszych) z określonymi odpowiednio w tabeli 1 (uv nil) i tabeli 2 (he nil) załącznika nr 1 do niniejszej specyfikacji istotnych warunków zamówienia pt. „szczegółowa charakterystyka przedmiotu zamówienia”. oba urządzenia muszą być ze sobą kompatybilne w zakresie wyposażenia umożliwiającego precyzyjne optyczne centrowanie wzorców (masek lub stempli) i podłoży wykorzystywanych do wytwarzania struktur w procesach uv nil, jak i w procesach he nil. podstawowe funkcje systemu uv nil obejmować muszą — kopiowanie struktur w procesach nanoimprintu z wykorzystaniem promieniowania uv (uv nano imprint lithography), — kopiowanie masek chromowych w standardowych procesach fotolitografii (mask alignment lithography) w różnych trybach pracy kopiowanie z kontrolowanym odstępem (proximity), kopiowanie w ‘miękkim` kontakcie (soft contact) z regulowaną siłą docisku, kopiowanie stykowe z siłą docisku regulowaną ciśnieniem gazu roboczego (hard contact), kopiowanie stykowe z siłą docisku regulowaną poziomem próżni (vacuum contact), oraz kombinacja obu powyższych trybów (hard+vacuum contact), — jednostronne i dwustronne centrowanie optyczne dla wymienionych powyżej procesów, — centrowanie optyczne wzorca (stempla) do podłoży (w tym układu kilku podłoży) przeznaczonych do dalszej obróbki w procesach tłoczenia na gorąco (uchwyty i wyposażenie kompatybilne z urządzeniem hot embossing nano imprint lithography), — programowanie, sterowanie i kontrolę procesów kopiowania oraz diagnostykę urządzenia poprzez graficzny interfejs użytkownika. podstawowe funkcje systemu he nil obejmować muszą — wytwarzanie mikro i nanostruktur w jednolitych materiałach (podłoża polimerowe lub ze szkieł niskotopliwych) w procesie tłoczenia na gorąco (hot embossing), — wytwarzanie mikro i nanostruktur w procesie kopiowania termicznego (thermal imprinting) w warstwach polimerów naniesionych na podłoża, — prowadzenie procesów he nil w próżni i przy zwiększonym ciśnieniu, — programowanie i kontrolę temperatury grzania stempla i podłoża w zakresie do co najmniej 550 st. c, — programowanie i kontrolę siły docisku stempla w zakresie do co najmniej 10 kn, — automatyczne rozłączenie stempla od wytworzonego wzoru (deembossing) wewnątrz komory roboczej, — programowanie, sterowanie i kontrolę procesów kopiowania oraz diagnostykę urządzenia poprzez graficzny interfejs użytkownika. konfiguracja systemu he nil umożliwiać ma wykonywanie procesów dla elementów wcześniej wycentrowanych optycznie w systemie uv nil, a także pozwalać na możliwość rozbudowy o moduły umożliwiające łączenie podłoży (wafer bonding). zamówienie obejmuje również przeszkolenie pracowników zamawiającego w zakresie technologii, obsługi i utrzymania technicznego urządzenia oraz stosowania procesów kopiowania. oferowane systemy mają być sprawdzonymi, znanymi na rynku urządzeniami. wykonawca jednoznacznie określi oferowane urządzenia poprzez podanie producenta/marki oraz nazwy typu/modelu w składanej ofercie. ii.1.6)