Sonda Langmuira
Opis przedmiotu przetargu: Przedmiotem zamówienia jest sonda Langmuira - fabrycznie nowe urządzenie do diagnostyki plazmy niskotemperaturowej. Urządzenie umożliwiać powinno wyznaczenie następujących wielkości fizycznych: gęstości jonów i elektronów , temperatura elektronów, EEDF (rozkład gęstości energii elektronów), potencjał plazmy, potencjał pływający, długość ekranowania Debye a, opisujących stan plazmy generowanej pod obniżonym ciśnieniem w warunkach: 1. wzbudzania plazmy w urządzeniu do wytwarzania warstw metodą pulsującego rozpylania magnetronowego (PMS - Pulse Magnetron Sputtering) przy zasilaniu magnetronu - źródła plazmy w metodzie PMS napięciem o częstotliwości do 100 kHz modulowanym częstotliwością do 2 kHz, 2. wzbudzania plazmy w urządzeniu do wytwarzania warstw metodą IPD (Impulse Plasma Deposition), w której plazma powstaje w sposób cyklicznie powtarzający się w częstotliwością rzędu 10 Hz w koaksjalnym akceleratorze plazmy pod wpływem rozładowania baterii kondensatorów następującego każdorazowo w okresie czasu rzędu 10-4 s. W odniesieniu do cech pomiarowych sondy i systemu kontroli urządzenie powinno: a) zapewniać pomiar wymienionych wyżej parametrów plazmy w zakresie napięć od -200 V do + 100 V i prądu od 20 mikroamperów do 1 A z szybkością skanowania nie mniejszą niż 15 scan/s w warunkach wyzwalania poziomem lub zboczem sygnału wyzwalającego (narastającego, malejącego) z rozdzielczością czasową nie mniejsza niż 60 ns oraz pasmem częstotliwości sygnału do 3 MHz a także możliwością wyboru opóźnienia rozpoczęcia pomiaru względem sygnału wyzwalania, b) zapewniać późniejszą rozbudowę o możliwość wyboru trybu pracy urządzenia: akwizycja i obróbka danych podczas skanowania w całym zakresie napięć lub akwizycja i obróbka danych dla wybranej wartości napięcia z podanego wyżej zakresu, c) zapewniać całkowicie zautomatyzowaną akwizycję danych z szybkością nie mniejszą niż 62000 points/s w pasmie nie gorszym niż 1 MHz, d) zapewniać możliwość automatycznego, sterowanego przemieszczania sondy wzdłuż osi z na odległość nie mniejszą niż 250 mm, e) zapewniać pełną kontrolę (systemu akwizycji i obróbki danych, wyznaczania wielkości fizycznych opisujących stan plazmy, systemu przemieszczania sondy wzdłuż osi z) z poziomu komputera PC przy wykorzystaniu integralnego oprogramowania kompatybilnego z systemem Windows, f) zapewniać taką konstrukcję urządzenia, aby umożliwić jego dołączenia do komory próżniowej przy wykorzystaniu próżnioszczelnego systemu mocowania, g) posiadać elektrodę kompensacji sygnału RF, aby w znaczący sposób skompensować sygnał RF w przestrajanych obwodach o wysokiej impedancji, h) posiadać sondę odniesienia dla kompensacji niskoczęstotliwościowych fluktuacji powodujących dryfowanie potencjału plazmy w reaktorach z niezbyt dobrze zdefiniowanym potencjałem ziemi i możliwymi niestabilnościami zasilania, i) urządzenie powinno posiadać minimum jedno wejście sygnału RS485
Dane postępowania
| ID postępowania BZP/TED: | 11695020110 |
|---|---|
| ID postępowania Zamawiającego: | |
| Data publikacji zamówienia: | 2011-05-17 |
| Rodzaj zamówienia: | dostawy |
| Tryb& postępowania [PN]: | Przetarg nieograniczony |
| Czas na realizację: | 34 dni |
| Wadium: | - |
| Oferty uzupełniające: | NIE |
| Oferty częściowe: | NIE |
| Oferty wariantowe: | NIE |
| Przewidywana licyctacja: | NIE |
| Ilość części: | 1 |
| Kryterium ceny: | 45% |
| WWW ogłoszenia: | www.zamowienia.pw.edu.pl/wykaz/ |
| Informacja dostępna pod: | Politechnika Warszawska, Wydział Inżynierii Materiałowej, ul. Wołoska 141, 02-507 Warszawa (pok.206) |
| Okres związania ofertą: | 30 dni |
Kody CPV
| 38540000-2 | Maszyny i aparatura badawcza i pomiarowa |
