Dostawa do sedziby zamawiającego nosników podłozy
Opis przedmiotu przetargu: Przedmiotem zamówienia jest dostawa - nośników podłoży do aparatur służących do osadzania warstw metodami MBE (molecular beam epitaxy), MS (magnetron sputtering), IBS (ion beam sputtering) PLD (pulsed laser deposition) - wymienione stanowiska są zainstalowane w IFM PAN. Wymagania techniczne: Wszystkie nośniki muszą być przystosowane do systemów transferu w wymienionych stanowiskach służących do osadzania warstw w warunkach ultrawysokiej próżni. Zamówienie obejmuje sześć nośników po dwie sztuki z wymienionych poniżej trzech grup o zróżnicowanych parametrach: 1.Nośniki do osadzania warstw bez grzania 2.Nośniki do osadzania warstw z grzaniem oporowym do 1000oC wyposażone w termoparę typu K 3.Nośniki do osadzania warstw z grzaniem wiązką elektronową do temperatury 1200oC Zamawiający wymaga załączenia do dostawy warunków gwarancji obejmującej okres nie krótszy niż 24 miesiące od dnia dostawy. Zakres zamówienia obejmuje dostawę przedmiotu zamówienia do siedziby Zamawiającego w Poznaniu przy ul. Smoluchowskiego 17.
Dane postępowania
| ID postępowania BZP/TED: | 30075420110 |
|---|---|
| ID postępowania Zamawiającego: | |
| Data publikacji zamówienia: | 2011-09-22 |
| Rodzaj zamówienia: | dostawy |
| Tryb& postępowania [PN]: | Przetarg nieograniczony |
| Czas na realizację: | 141 dni |
| Wadium: | - |
| Oferty uzupełniające: | NIE |
| Oferty częściowe: | NIE |
| Oferty wariantowe: | NIE |
| Przewidywana licyctacja: | NIE |
| Ilość części: | 1 |
| Kryterium ceny: | 30% |
| WWW ogłoszenia: | www.ifmpan.poznan.pl |
| Informacja dostępna pod: | www.ifmpan.poznan.pl |
| Okres związania ofertą: | 29 dni |
Kody CPV
| 38540000-2 | Maszyny i aparatura badawcza i pomiarowa |
