Dostawa systemu osadzania warstw atomowych (ALD) wraz z wyposażeniem dla Instytutu Technologii Materiałów Elektronicznych w Warszawie - polska-warszawa: sprzęt laboratoryjny, optyczny i precyzyjny (z wyjątkiem szklanego)

Opis przedmiotu przetargu: przedmiotem niniejszego zamówienia jest dostawa fabrycznie nowego systemu osadzania warstw atomowych – (ald atomic layer deposition) wraz z wyposażeniem, przeznaczonego do osadzania warstw półprzewodników i dielektryków w trzech trybach a) termicznego ald b) termicznego ald w trybie ekspozycji (tryb wzmocnionej dyfuzji reagentów) c) osadzania ald wspomaganego plazmą. osadzanie warstw ma się odbywać na półprzewodnikowych lub innych krystalicznych podłożach płaskich lub podłożach o powierzchniach rozwiniętych, których współczynnik kształtu (stosunek szerokości do głębokości rowka) jest rzędu kilkuset. temperatura podłoża powinna być kontrolowana w zakresie do 500oc. maksymalna średnica podłoża do 200mm. wymagania zamawiającego odnośnie parametrów technicznych systemu określa załącznik nr 1 do niniejszej siwz pt. „szczegółowa charakterystyka przedmiotu zamówienia”. przedmiot zamówienia obejmuje również (1) wykonanie testów odbiorczych systemu uruchomionego u zamawiającego w zakresie podanym w tabeli nr 1, (2) przeszkolenie pracowników zamawiającego w zakresie obsługi systemu i oprogramowania w zakresie podanym w tabeli nr 1. zamawiający wymaga, aby urządzenia wchodzące w skład systemu podlegały serwisowaniu na terytorium rzeczpospolitej polskiej. ii.1.6)