Dostawa, instalacja i uruchomienie urządzenia do mycia wysokociśnieniowego podłoży półprzewodnikowych i - pl-warszawa: sprzęt laboratoryjny, optyczny i precyzyjny (z wyjątkiem szklanego)

Opis przedmiotu przetargu: dostawa, instalacja i uruchomienie urządzenia do mycia wysokociśnieniowego podłoży półprzewodnikowych i masek chromowych (semi automated high pressure single wafer and substrate cleaning system) zgodnego z wymaganiami zamawiającego, określonymi w „szczegółowej charakterystyce przedmiotu zamówienia” stanowiącej załącznik nr 1 do niniejszej siwz, przeznaczonego do mycia podłoży półprzewodnikowych oraz masek chromowych o rozmiarach obejmujących co najmniej 1) podłoża półprzewodnikowe o średnicy 2”, 3”, 100 mm i 150 mm, 2) fragmentów podłoży półprzewodnikowych o nieregularnych kształtach i rozmiarach od 15 mm x 15 mm, 3) masek chromowych o rozmiarach 4” x 4”, 5” x 5”, 6” x 6”, 7” x 7”. urządzenie pozwalać ma na programowanie i kontrolę procesów mycia obejmujących co najmniej mycie podłoży w roztworze piranha, mycie w procesach sc1 i sc2, mycie podłoży w rozcieńczonym roztworze hf (3%), wysokociśnieniowe mycie wodą dejonizowaną, procesy mycia ultradźwiękowego (megasonic system), suszenie dyszą z nadmuchem azotowym. roztwory piranha, sc1 i sc2 mają być otrzymywane przez łączenie odczynników chemicznych w zadanych proporcjach w trakcie procesu mycia. zamówienie obejmuje również przeszkolenie pracowników zamawiającego w zakresie bezpieczeństwa, obsługi i utrzymania technicznego urządzenia oraz stosowania procesów mycia chemicznego, wysokociśnieniowego i ultradźwiękowego. kod cpv według wspólnego słownika zamówień publicznych (cpv) 38.00.00.00 5 – sprzęt laboratoryjny, optyczny i precyzyjny (z wyjątkiem szklanego) ii.1.6)